膜厚儀，又叫膜厚計、膜厚測試儀，分為磁感應鍍層測厚儀，電渦流鍍層測厚儀，熒光X射線(xiàn)儀鍍層測厚儀。 采用磁感應原理時(shí)，利用從測頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來(lái)測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小，來(lái)表示其覆層厚度。
采用磁感應原理時(shí)，利用從測頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小， 磁感應膜厚儀
來(lái)測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小，來(lái)表示其覆層厚度。覆層越厚，則磁阻越大，磁通越小。利用磁感應原理的測厚儀，原則上可以有導磁基體上的非導磁覆層厚度。一般要求基材導磁率在500以上。如果覆層材料也有磁性，則要求與基材的導磁率之差足夠大（如鋼上鍍鎳）。當軟芯上繞著(zhù)線(xiàn)圈的測頭放在被測樣本上時(shí)，儀器自動(dòng)輸出測試電流或測試信號。早期的產(chǎn)品采用指針式表頭，測量感應電動(dòng)勢的大小，儀器將該信號放大后來(lái)指示覆層厚度。近年來(lái)的電路設計引入穩頻、鎖相、溫度補償等地新技術(shù)，利用磁阻來(lái)調制測量信號。還采用設計的集成電路，引入微機，使測量精度和重現性有了大幅度的提高（幾乎達一個(gè)數量級）?，F代的磁感應測厚儀，分辨率達到0.1um，允許誤差達1%，量程達10mm。
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